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J-GLOBAL ID：201803019583333264
ノズル式のプラズマエッチング装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
特許業務法人 武和国際特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2014035544
Publication number (International publication number)：2014212302
Patent number：6292470
Application date： Feb. 26, 2014
Publication date： Nov. 13, 2014
Claim (excerpt)：
【請求項1】 ウェハが設置されるステージと、
このステージを覆うチャンバと、
このチャンバ内を真空引きする真空引き部と、
前記チャンバの前記ステージに対向する位置に設けられた管状のガス供給部と、
このガス供給部の先端側の内部に取り付けられ、このガス供給部から供給されるエッチングガスを前記ウェハへ略均等に吹き付けさせるノズルと、
前記ガス供給部に取り付けられ、このガス供給部内のエッチングガス中にマイクロプラズマを発生させるとともにラジカルを生成させるノズルプラズマ発生部と、
前記ステージに設けられ、このステージに設置されるウェハを含む領域にプラズマを発生させてエッチングガスをイオン化およびラジカル化させるステージプラズマ発生部と、
を具備したことを特徴とするプラズマエッチング装置。
IPC (2)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
H01L 21/302 101 E
, H05H 1/46 M
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