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J-GLOBAL ID：201902222980925101   Reference number：19A2291273

Structural characterization of mist chemical vapor deposited amorphous aluminum oxide films using water-free solvent

水フリー溶媒を用いたミスト化学蒸着非晶質酸化アルミニウム膜の構造キャラクタリゼーション

Author (5)： YATABE Zenji (Priority Organization for Innovation and Excellence, Kumamoto University) ,  NISHIYAMA Koshi (Graduate School of Science and Technology, Kumamoto University) ,  TSUDA Takaaki (Graduate School of Science and Technology, Kumamoto University) ,  NAKAMURA Yusui (Graduate School of Science and Technology, Kumamoto University) ,  NAKAMURA Yusui (Kumamoto Phoenics)
Material： Journal of the Ceramic Society of Japan (Web)  (J Ceram Soc Jpn (Web))
Volume： 127  Issue： 8  Page： 590-593(J-STAGE)  Publication year： 2019 
JST Material Number： U0409A  ISSN： 1348-6535  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,  amorphous state ,  *aluminum oxide ,  *evaporated film ,  characterization ,  chemical synthesis ,  band gap ,  refractive index ,  density ,  X-ray photoelectron spectroscopy ,  ellipsometry ,  solvent
Semi thesaurus term： *mist CVD

Author keywords (3)： Mist chemical vapor deposition ,  Aluminium oxide ,  Bandgap

JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Reference (22)：

• 1) Z. Yatabe, J. T. Asubar and T. Hashizume, J. Phys. D Appl. Phys., 49, 393001 (2016).
• 2) G. He, X. Wang, M. Oshima and Y. Shimogaki, Jpn. J. Appl. Phys., 49, 031502 (2010).
• 3) Y. Xiang, C. Zhou, E. Jia and W. Wang, Nanoscale Res. Lett., 10, 137 (2015).
• 4) K. Yoshitsugu, M. Horita, Y. Ishikawa and Y. Uraoka, Phys. Status Solidi C, 10, 1426-1429 (2013).
• 5) S. K. Kim, S. W. Lee, C. S. Hwang, Y.-S. Min, J. Y. Won and J. Jeong, J. Electrochem. Soc., 153, F69-F76 (2006).

Terms in the title (8)： 水 ,  溶媒 ,  ミスト ,  化学蒸着 ,  非晶質 ,  酸化 ,  アルミニウム膜 ,  キャラクタリゼーション