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J-GLOBAL ID：201902239270402298   Reference number：19A2157246

Synthesis and characterization of mist chemical vapor deposited aluminum titanium oxide films

ミスト化学蒸着アルミニウムチタン酸化物膜の合成とキャラクタリゼーション

Author (6)： YATABE Zenji (Kumamoto Univ., Kumamoto, JPN) ,  NISHIYAMA Koshi (Kumamoto Univ., Kumamoto, JPN) ,  TSUDA Takaaki (Kumamoto Univ., Kumamoto, JPN) ,  NISHIMURA Kazuki (Kumamoto Univ., Kumamoto, JPN) ,  NAKAMURA Yusui (Kumamoto Univ., Kumamoto, JPN) ,  NAKAMURA Yusui (Kumamoto Phoenics, Kumamoto, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 58  Issue： 7  Page： 070905.1-070905.4  Publication year： Jul. 2019 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,  *aluminum compound ,  *titanium compound ,  *oxide film ,  *dielectric thin film ,  X-ray diffraction ,  structure ,  band gap ,  refractive index ,  density
Semi thesaurus term： *mist chemical vapor deposition method ,  *oxide film ,  atomic layer deposition ,  *high-k thin film ,  amorphous structure ,  mass density

JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Dielectrics in general  (BM05010F)

Reference (36)：

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Terms in the title (5)： ミスト ,  化学蒸着 ,  アルミニウムチタン ,  酸化物膜 ,  キャラクタリゼーション