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J-GLOBAL ID：201902285529178830   Reference number：19A0598766

ナノチャネル酸化チタン薄膜トランジスタの試作と評価

Author (7)： SOGAI KEITO (山形大 工) ,  SAITO SHUNSUKE (山形大 大学院理工学研究科) ,  YOSHIDA KAZUKI (山形大 大学院理工学研究科) ,  KANOMATA KENSAKU (山形大 大学院理工学研究科) ,  MIURA MASANORI (山形大 大学院理工学研究科) ,  ARIMA BOSHIRUAHANMADO (山形大 大学院理工学研究科) ,  HIROSE FUMIHIKO (山形大 大学院理工学研究科)
Material： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
Volume： 118  Issue： 461(CPM2018 101-120)  Page： 41-44  Publication year： Feb. 21, 2019 
JST Material Number： S0532B  ISSN： 0913-5685  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *thin film transistor ,  titanium oxide ,  oxide ,  thin film ,  micro channel ,  nanostructure ,  thin film growth ,  nanochannel

JST classification (1)： Transistors  (NC03070N)

Reference (3)：

• Ali K. Okyay, Furkan Cimen, Feyza Oruc, Levent E Aygun, TiO₂ Thin Film Transistor by Atomic Layer Deposition, Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering, Vol. 8626 862616-1-7, March 2013
• Ko Kikuchi, Masanori Miura, Kensaku Kanomata, Bashir Ahmmad, Shigeru Kubota, Fumihiko Hirose, Room temperature atomic layer deposition of TiO₂ on gold nanoparticles, Journal of Vacuum Science & Technology A 35, 01B121, 2017
• Oleg Lupan, Vasile Postic, Nicolai Ababii, Tim Reimer, Sindu Shree, Mathias Hoppe, Oleksandr Polonskyi, Victor Sontea, Steffen Chemnitz, Franz Faupel, Rainer Adelung, Ultra-thin TiO₂ films by atomic layer deposition and surface functionalization with Au nanodots for sensing applications, Materials Science in Semiconductor Processing 87, 44-53, 2018

Terms in the title (5)： ナノチャネル ,  酸化チタン薄膜 ,  トランジスタ ,  試作 ,  評価