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J-GLOBAL ID：202002220396970739   Reference number：20A0844610

CF₄プラズマによりオンサイト生成されるC₂F₄ガスの濃縮・高純度化

Author (10)： NAKATSUKA KOGAKU (大阪大 大学院工学研究科) ,  TANAKA RYO (大阪大 大学院工学研究科) ,  IINO DAIKI (キオクシア) ,  KURIHARA KAZUAKI (キオクシア) ,  FUKUMIZU HIROYUKI (キオクシア) ,  FUKUHARA JOTA (キオクシア) ,  HAYASHI HISATAKA (キオクシア) ,  KAKIUCHI HIROAKI (大阪大 大学院工学研究科) ,  YASUTAKE KIYOSHI (大阪大 大学院工学研究科) ,  OMI HIROMASA (大阪大 大学院工学研究科)
Material： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
Volume： 2020  Issue： 春季(CD-ROM)  Page： ROMBUNNO.E03  Publication year： Mar. 01, 2020 
JST Material Number： Y0914A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *plasma ,  plasma CVD ,  *concentration(enrichment) ,  purity ,  aliphatic fluorine compound ,  constitution ,  dry etching ,  reactivity ,  fluorination ,  adsorbed gas ,  adsorption ,  olefin compound
Semi thesaurus term： F2 fluorination ,  fluorocarbon ,  high grade ,  film formation

JST classification (6)： Plasma in general  (BJ02010B) ,  Plasma production and heating  (BJ02060E) ,  Plasma devices  (BJ02082I) ,  Electron theory of adsorption  (CB12042Y) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Other surface treatment  (WC08070F)

Substance index (1)： Tetrafluoroethylene

Reference (2)：

• 野尻一男、はじめての半導体ドライエッチング技術、技術評論社、(2018)
• 田中他、2019年度精密工学会秋季学術講演会講演論文集

Terms in the title (3)： プラズマ ,  濃縮 ,  高純度化