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J-GLOBAL ID：202002226279132379   Reference number：20A0844621

Arベース大気圧VHFプラズマによるSiO_x成膜特性

Author (5)： MAEKAWA MASAYA (大阪大) ,  YAMASAKI KEISHI (大阪大) ,  OMI HIROMASA (大阪大) ,  KAKIUCHI HIROAKI (大阪大) ,  YASUTAKE KIYOSHI (大阪大)
Material： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
Volume： 2020  Issue： 春季(CD-ROM)  Page： ROMBUNNO.E19  Publication year： Mar. 01, 2020 
JST Material Number： Y0914A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： plasma ,  *silicon oxide ,  constitution ,  argon ,  antireflection film ,  protective film ,  water repellency ,  insulating film ,  plasma CVD ,  covering ,  atmospheric plasma
Semi thesaurus term： VHF plasma ,  *plasma CVD coating ,  silicon oxide ,  *film formation ,  atmospheric pressure plasma

JST classification (5)： Plasma devices  (BJ02082I) ,  Crystal growth of oxides  (BK13050I) ,  Oxide thin films  (BK14050P) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I) ,  Vapor plating  (WC08022K)

Terms in the title (4)： Ar ,  大気圧 ,  VHFプラズマ ,  成膜