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J-GLOBAL ID：202002238919919214   Reference number：20A1884105

Electrical fluctuation spectra due to characteristic thermal diffusion in Ta thin films deposited by RF-magnetron sputtering

RFマグネトロンスパッタリングにより蒸着したTa薄膜における特性熱拡散による電気的ゆらぎスペクトル

Author (5)： Uesugi Ryota (College of Engineering, Ibaraki University, 4-12-1, Nakanarusawa, Hitachi, Ibaraki, 316-8511, Japan) ,  Komine Takashi (College of Engineering, Ibaraki University, 4-12-1, Nakanarusawa, Hitachi, Ibaraki, 316-8511, Japan) ,  Mizuno Masaomi (College of Engineering, Ibaraki University, 4-12-1, Nakanarusawa, Hitachi, Ibaraki, 316-8511, Japan) ,  Ando Ryo (Institute of Technology Innovation Center (ITIC) of Ibaraki prefecture, 3781-1 Nagaoka, Ibaraki-machi, Higashi-ibaraki-gun, Ibaraki, 311-3195, Japan) ,  Akabane Hideo (College of Engineering, Ibaraki University, 4-12-1, Nakanarusawa, Hitachi, Ibaraki, 316-8511, Japan)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 59  Issue： 2  Page： 025509 (7pp)  Publication year： Feb. 2020 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *magnetron sputtering ,  fluctuation ,  *evaporated film ,  Thermal Diffusion ,  *sputtered deposition ,  Tantalum ,  simulation ,  numerical analysis ,  fractal ,  electrical resistivity ,  crystal structure ,  power spectral density ,  two dimension ,  film thickness ,  Numerical Simulation
Semi thesaurus term： RF magnetron sputtering ,  spread pathway

JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (7)： RFマグネトロンスパッタリング ,  蒸着 ,  Ta ,  薄膜 ,  熱拡散 ,  ゆらぎ ,  スペクトル