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J-GLOBAL ID：202103017304670330

レーザー脱離イオン化質量分析法及びレーザー脱離イオン化質量分析用の有機シリカ多孔膜基板

Inventor： 後藤 康友 ,  溝下 倫大 ,  佐々木 有理 ,  前川 佳史 ,  稲垣 伸二 ,  天野 純子 ,  八須 和子
Applicant, Patent owner： 株式会社豊田中央研究所 ,  公益財団法人野口研究所
Agent (1)： 特許業務法人セントクレスト国際特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2017086418
Publication number (International publication number)：2018185200
Patent number：6908428
Application date： Apr. 25, 2017
Publication date： Nov. 22, 2018
Claim (excerpt)：

【請求項1】 照射レーザー光を吸収可能な有機基を骨格に有し、平均細孔径が5〜50nmの細孔を有し、かつ、表面開口率が33〜70%である有機シリカ多孔膜に対して、測定対象分子を含む試料を担持せしめた後、該膜の試料担持部位にレーザー光を照射することにより、前記測定対象分子をイオン化して質量分析を行うことを特徴とするレーザー脱離イオン化質量分析法。

IPC (1)：

G01N 27/62 ( 202 1.01)

FI (1)：

G01N 27/62 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• レーザー脱離イオン化質量分析法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2012-269387   Applicant：公益財団法人野口研究所, 株式会社豊田中央研究所
• 質量分析用デバイスおよびその作製方法、並びに、そのデバイスを用いたレーザ脱離イオン化質量分析装置および分析方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-236247   Applicant：富士フイルム株式会社
• 質量分析用基板
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2011-001812   Applicant：大日本塗料株式会社
• 質量分析用デバイス及びそれを用いた質量分析装置、質量分析方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-244029   Applicant：富士フイルム株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• メソポーラス有機シリカを用いたレーザー脱離イオン化質量分析