X線光学系

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴木利之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006276135
Publication number (International publication number)：2008096180
Application date： Oct. 10, 2006
Publication date： Apr. 24, 2008
Summary：

【課題】断面がライン状のX線ビームを発生するX線源を用いたままで、ライン状のX線ビームとポイント状のX線ビームを選択的に得られるようにして、かつ、ポイント状のX線ビームを選択した場合に、その単位面積当たりのX線強度を大きくする。【解決手段】X線光学系は、X線源10と、アパーチャスリット板14が付属する放物面多層膜ミラー18と、光路選択スリット装置22と、ポリキャピラリー36と、出射幅制限スリット38を備えている。ポリキャピラリー36と出射幅制限スリット38は、放物面多層膜ミラー18から出てくる平行ビーム20の経路中に着脱可能に挿入されていて、この経路から取り外すことができる。そして、その空いたところに、ソーラスリット26と発散スリット28を挿入することができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

次のものを備えるX線光学系。 (ア)断面がライン状のX線ビームを発生するX線源。 (イ)前記X線ビームの断面の長手方向に垂直な方向と前記X線ビームの進行方向とを含む平面(以下、特定平面という)内において前記X線ビームが所定の発散角で発散していく発散ビームの経路。 (ウ)前記特定平面内において前記X線ビームが平行に進行する平行ビームの経路。 (エ)前記X線源と前記平行ビームの経路との間に配置された放物面多層膜ミラーであって、前記特定平面内において放物線の形状をしている反射面を備えていて、前記放物線の焦点が前記X線源の位置にあり、前記X線源からの前記X線ビームを前記反射面で反射することで前記平行ビームを生み出す放物面多層膜ミラー。 (オ)前記発散ビームと前記平行ビームの任意の一方を通過させて他方を遮断できる光路選択スリット装置。 (カ)前記光路選択スリット装置の後方における前記平行ビームの経路中に着脱可能に挿入されるポリキャピラリーであって、前記平行ビームを受け入れてポイント状に集束する集束ビームを出射するポリキャピラリー。

IPC (4)：

G01N 23/207 , G21K 1/06 , G21K 1/02 , G01N 23/201

FI (4)：

G01N23/207 , G21K1/06 B , G21K1/02 C , G01N23/201

F-Term (12)：

2G001AA01 , 2G001BA18 , 2G001CA01 , 2G001EA02 , 2G001EA07 , 2G001EA09 , 2G001EA20 , 2G001JA01 , 2G001JA20 , 2G001SA01 , 2G001SA02 , 2G001SA30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

X線回折装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-400050 Applicant：理学電機株式会社
特公平7-40080号公報
全反射蛍光X線分析装置および全反射蛍光X線を用いた分析方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-373524 Applicant：株式会社堀場製作所

Cited by examiner (8)

X線回折装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-400050 Applicant：理学電機株式会社
X線照射を使用して対象の内部構造の画像を得る方法およびそれを実行する装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-302304 Applicant：クマホフ,ムラジンアブベキロビッチ
特表平7-504491

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