Pat
J-GLOBAL ID：200903014833350338

X線分析装置及びX線分析方法

Inventor：
深井 隆行

About 深井 隆行

, 
的場 吉毅

About 的場 吉毅

, 
長谷川 清

About 長谷川 清


Applicant, Patent owner：
エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社

About エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社


Agent (1)： 松下 義治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007331546
Publication number (International publication number)：2008203245
Application date： Dec. 25, 2007
Publication date： Sep. 04, 2008
Summary：
【課題】 X線分析装置及びX線分析方法において、X線源を安定に挙動させ、定量分析を安定して行なうこと。【解決手段】 1次X線を試料1に照射するX線管球3と、1次X線の強度を調整可能な1次X線調整機構4と、試料1から放出される特性X線を検出し該特性X線及び散乱X線のエネルギー情報を含む信号を出力するX線検出器5と、上記信号を分析する分析器6と、試料1とX線検出器5との間に配設されX線検出器5に入射される特性X線及び散乱X線の合計強度を調整可能な入射X線調整機構7とを備えている。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
放射線を試料に照射する放射線源と、 前記放射線の強度を調整可能な放射線調整機構と、 前記試料から放出される特性X線及び散乱X線を検出し該特性X線及び散乱X線のエネルギー情報を含む信号を出力するX線検出器と、 前記信号を分析する分析器と、 前記試料と前記X線検出器との間に配設され前記X線検出器に入射される前記特性X線及び散乱X線の合計強度を調整する入射X線調整機構とを備えていることを特徴とするX線分析装置。
IPC (2)：
G01N 23/223 ,  G21K 1/04
FI (2)：
G01N23/223 ,  G21K1/04 P
F-Term (30)：
2G001AA01 ,  2G001AA03 ,  2G001BA04 ,  2G001BA05 ,  2G001BA14 ,  2G001BA30 ,  2G001CA01 ,  2G001DA01 ,  2G001DA02 ,  2G001EA03 ,  2G001EA06 ,  2G001EA09 ,  2G001FA09 ,  2G001GA01 ,  2G001GA05 ,  2G001GA09 ,  2G001GA11 ,  2G001HA13 ,  2G001JA02 ,  2G001JA04 ,  2G001JA11 ,  2G001JA20 ,  2G001KA01 ,  2G001PA07 ,  2G001PA11 ,  2G001QA01 ,  2G001SA01 ,  2G001SA02 ,  2G001SA10 ,  2G001SA30
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 蛍光X線分析装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-317633   Applicant：アワーズテック株式会社
Cited by examiner (12)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM