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J-GLOBAL ID：202203002328690633
合成ガスの製造装置および合成ガスの製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (2)：
齋藤 拓也
, 来間 清志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2020147387
Publication number (International publication number)：2022042136
Application date： Sep. 02, 2020
Publication date： Mar. 14, 2022
Summary：
【課題】非貴金属の触媒物質を備える触媒構造体でドライリフォーミングを行っても、触媒活性の低下を長期間抑制でき、COとH
2
を含む合成ガスを安定して製造できる合成ガスの製造装置及び製造方法の提供。
【解決手段】CO及びH
2
を含む合成ガスを製造し、CH
4
及びCO
2
を含む原料ガスを供給する原料ガス供給部と、還元ガスを供給する還元ガス供給部と、前記原料ガス及び前記還元ガスが供給され、前記原料ガス及び前記還元ガスを触媒構造体に流通しながら前記触媒構造体を加熱し、前記原料ガスから合成ガスを生成する合成ガス生成部と、を備え、前記触媒構造体は、ゼオライト型化合物で構成される多孔質構造の担体と、前記担体に内在する触媒物質と、を備え、前記担体は互いに連通する通路を内部に有し、前記触媒物質は、非貴金属の金属微粒子であり、前記担体の少なくとも前記通路に存在している合成ガスの製造装置。
【選択図】図1
Claim (excerpt)：
一酸化炭素および水素を含む合成ガスを製造する合成ガスの製造装置であって、
メタンおよび二酸化炭素を含む原料ガスを供給する原料ガス供給部と、
還元ガスを供給する還元ガス供給部と、
前記原料ガス供給部から前記原料ガスが供給されると共に前記還元ガス供給部から前記還元ガスが供給され、前記原料ガスおよび前記還元ガスを触媒構造体に流通しながら前記触媒構造体を加熱し、前記原料ガスに含まれるメタンおよび二酸化炭素から一酸化炭素および水素を含む合成ガスを生成する合成ガス生成部と、
を備え、
前記触媒構造体は、ゼオライト型化合物で構成される多孔質構造の担体と、前記担体に内在する少なくとも1つの触媒物質と、を備え、
前記担体が、互いに連通する通路を内部に有し、
前記触媒物質が、非貴金属の金属微粒子であり、前記担体の少なくとも前記通路に存在していることを特徴とする合成ガスの製造装置。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (23)：
4G140DA03
, 4G140DC02
, 4G169AA03
, 4G169AA09
, 4G169BA02A
, 4G169BA02B
, 4G169BB02A
, 4G169BB02B
, 4G169BC66A
, 4G169BC67A
, 4G169BC68A
, 4G169BC68B
, 4G169CC04
, 4G169CC07
, 4G169DA06
, 4G169EB10
, 4G169FA02
, 4G169FB44
, 4G169ZA36A
, 4G169ZA36B
, 4G169ZB03
, 4G169ZB09
, 4G169ZD06
Cited by applicant (7)
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合成ガス製造用触媒および合成ガスの製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2012-135218
Applicant：三菱化学株式会社, 国立大学法人北海道大学
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触媒の製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2014-125421
Applicant：株式会社IHI
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合成ガス製造用触媒及び合成ガスの製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2013-076347
Applicant：三菱化学株式会社
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Cited by examiner (3)
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