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J-GLOBAL ID：202203019935613516
被処理基板にシリコン膜を形成する方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
弁理士法人酒井国際特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2018127331
Publication number (International publication number)：2020009826
Patent number：7138273
Application date： Jul. 04, 2018
Publication date： Jan. 16, 2020
Claim (excerpt)：
【請求項1】 (A)炭素原子数8のシクロアルカンであって、且つ、沸点が160°C未満である第1の溶媒と、炭素原子数10のビシクロアルカンであって、且つ、沸点が160°C以上である第2の溶媒とを含む混合溶媒に、シランポリマーを溶解させた溶液を、被処理基板に塗布して塗布膜を形成する工程、及び (B)前記塗布膜を加熱する工程を含み、 前記混合溶媒においては、前記第1の溶媒の体積を1としたとき、前記第2の溶媒の体積が2以下である、 被処理基板にシリコン膜を形成する方法。
IPC (4)：
H01L 21/208 ( 200 6.01)
, C30B 7/06 ( 200 6.01)
, C01B 33/02 ( 200 6.01)
, C01B 33/04 ( 200 6.01)
H01L 21/208 Z
, C30B 7/06
, C01B 33/02 D
, C01B 33/04
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