線状及び架橋済み高分子量ポリシラン、ポリゲルマン、及びそれらのコポリマー、それらを含む組成物、並びにこのような化合物及び組成物の製造及び使用方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：社本一夫 , 小野新次郎 , 小林泰 , 千葉昭男 , 富田博行 , 岡本芳明
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2008534671
Publication number (International publication number)：2009511670
Application date： Oct. 05, 2006
Publication date： Mar. 19, 2009
Summary：

線状及び架橋済みのHMW(高分子量)ポリシラン及びポリゲルマン、ポリペルヒドロシラン及びポリペルヒドロゲルマン、それを含む機能性液体の製造方法、並びに一連の望ましい用途における液体の使用方法を開示する。シラン及びゲルマンポリマーは一般に、R’置換基で置換されたSi及び/またはGeの鎖で構成され、ここで、R’の各場合は、例えば、独立して、水素、ハロゲン、アルケニル、アルキニル、ヒドロカルビル、芳香族ヒドロカルビル、複素環式芳香族ヒドロカルビル、SiR”3、GeR”3、PR”2、OR”、NR”2、またはSR”であり;ここで、Rの各場合は独立して、水素またはヒドロカルビルである。架橋済みポリマーを、脱ハロゲン化的カップリングまたはデヒドロカップリングによって合成することができる。線状ポリマーを、開環重合によって合成することができる。ポリマーを、ハロゲン化及び/または水素化物の源との反応によってさらに修正して、ペルヒドロシラン及びペルヒドロゲルマンポリマーを与えることができ、これらは、液体インキ配合物において使用される。合成は、液体特性(例えば、粘度、揮発度、及び表面張力)の適合に対処する。液体を、スピンコーティング、インクジェッティング、ドロップキャスティング等による膜及び物体の堆積のために使用でき、UV照射の使用はあってもなくてもよい。堆積した膜を、400〜600°Cでのキュアリング及び(所望により)レーザー-または熱-誘起結晶化(及び/またはドーパントが存在する場合、ドーパント活性化)によって、アモルファス及び多結晶ケイ素またはゲルマニウム、並びにケイ素または酸化ゲルマニウムまたは窒化物に転換することができる。

Claim (excerpt)：

架橋済みポリマーを含む組成物において、該ポリマーは: (a)原子の線状鎖であって、該原子は、独立して、Si原子及びGe原子からなる群から選択され、原子の前記鎖は、異なる鎖からの原子同士の間の直接結合によって互いに架橋する、原子の線状鎖と; (b)側鎖Rであって、R基は、前記鎖中の前記原子と直接に結合して、前記鎖中の前記原子の原子価を完全なものにし、但し、前記R基が全て独立して、水素、ハロゲン、芳香族ヒドロカルビル基、または置換芳香族ヒドロカルビル基のみからなる群から選択される場合、架橋度は、線状鎖原子の約10%以下を含む、側鎖Rと;を含む、組成物。

IPC (5)：

C08G 77/60 , C08G 79/14 , H01L 21/316 , H01L 21/318 , H01L 21/208

FI (5)：

C08G77/60 , C08G79/14 , H01L21/316 B , H01L21/318 B , H01L21/208 L

F-Term (44)：

4J030CC15 , 4J030CD01 , 4J030CD11 , 4J030CE02 , 4J030CE05 , 4J030CE09 , 4J030CE11 , 4J030CF02 , 4J246AA06 , 4J246AB01 , 4J246AB15 , 4J246BA020 , 4J246BB45X , 4J246BB450 , 4J246BB452 , 4J246CA010 , 4J246CA230 , 4J246CA390 , 4J246CA40X , 4J246CA440 , 4J246CA720 , 4J246CA870 , 4J246CA910 , 4J246FA191 , 4J246FA321 , 4J246FA431 , 4J246FA511 , 4J246FC011 , 4J246FC111 , 5F053AA06 , 5F053BB09 , 5F053DD01 , 5F053DD20 , 5F053FF01 , 5F053GG01 , 5F053GG02 , 5F053GG03 , 5F053PP03 , 5F058BC02 , 5F058BC08 , 5F058BD04 , 5F058BD10 , 5F058BF46 , 5F058BH01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

ケイ素ポリマーおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-189083 Applicant：ジェイエスアール株式会社
シリコン膜の形態学的変化法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-294717 Applicant：株式会社オクテック, JSR株式会社, ウシオ電機株式会社
シリコン膜またはシリコン酸化膜の形成方法およびそのための組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-245947 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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