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J-GLOBAL ID:202303008014744599
クロスフローろ過装置の作製方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (3):
宮嶋 学
, 堀田 幸裕
, 柳本 陽征
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2019071898
Publication number (International publication number):2020168611
Patent number:7289128
Application date: Apr. 04, 2019
Publication date: Oct. 15, 2020
Claim (excerpt):
【請求項1】(1)溶媒によって除去可能な微粒子を樹脂材料に包埋し、その後、前記微粒子を含む前記樹脂材料を平板状に加工し、さらにその後、前記微粒子を除去することによって、連通した微細孔を内部に有する多孔性基材Pを形成する工程と、(2)多孔性基材Pおよび非多孔性基材Nからなる平板状の基板Aを形成する工程と、(3)基板Aの上面および下面にそれぞれ接合させるための平板状の基板Bおよび基板Cを形成する工程と、(4)基板Aの上面および基板Bの下面の少なくともいずれか一方に、部分的に多孔性基材Pに接するように配置することができ、さらに溶液を導入するための入口Iおよび溶液を排出するための出口Oをそれぞれ少なくとも1つずつ有するとともに、多孔性基材Pと出口Oの間において、非多孔性基材Nに接する流路部分Fを有する、導入流路Dを形成する工程と、(5)基板Aの下面と基板Cの上面の少なくともいずれか一方に、少なくとも部分的に多孔性基材Pに接するように配置することができ、さらに溶液を排出するための出口O’を少なくとも1つ有する、回収流路Eを形成する工程と、(6)基板Aを基板Bおよび基板Cによって挟み込み固定する工程と、を含む、クロスフローろ過装置の作製方法。
IPC (6):
B01D 63/08 ( 200 6.01)
, G01N 37/00 ( 200 6.01)
, B01D 67/00 ( 200 6.01)
, B01D 71/70 ( 200 6.01)
, B01D 29/01 ( 200 6.01)
, B01D 39/16 ( 200 6.01)
FI (9):
B01D 63/08
, G01N 37/00 101
, B01D 67/00
, B01D 71/70
, B01D 29/04 510 B
, B01D 29/04 510 D
, B01D 29/04 510 F
, B01D 29/04 530 A
, B01D 39/16 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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マイクロ流路デバイス、分離方法、及び、分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-048893
Applicant:富士ゼロックス株式会社
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材料および材料を製造するための方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2015-003939
Applicant:エーブリーデニソンコーポレイション
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膜デバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-249697
Applicant:東レ株式会社, 財団法人神奈川科学技術アカデミー
-
膜デバイスとその利用法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-248325
Applicant:東レ株式会社, 財団法人神奈川科学技術アカデミー
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