Pat

J-GLOBAL ID：202403009468995840

励起光照射装置および励起光照射方法

Inventor： 橋本 将輝 ,  芳井 義治 ,  竹村 祐輝 ,  水落 憲和
Applicant, Patent owner： スミダコーポレーション株式会社 ,  国立大学法人京都大学
Agent (1)： 青木 修
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2020098053
Publication number (International publication number)：2021189148
Patent number：7428322
Application date： Jun. 04, 2020
Publication date： Dec. 13, 2021
Claim (excerpt)：

【請求項1】 励起光で励起されるカラーセンタを含む基材と、 前記基材に対して離間して配置されそれぞれ反射面を有する少なくとも1対の反射部材と、 前記励起光を出射する照射装置と、 前記カラーセンタの電子スピン量子操作を行うためのマイクロ波を前記カラーセンタに印加するコイルとを備え、 前記コイルは、当該コイルの両端となる2つの引出導体部と、前記引出導体部に接続される円形状導体部とを備え、 前記基材および前記反射部材は、前記円形状導体部の内側中空部分内に配置され、前記少なくとも1対の反射部材は、前記基材の互いに対向する2つの面からそれぞれ出射した前記励起光を前記反射面で反射して前記基材に入射させ、前記励起光の、前記基材への入射および前記基材からの出射を繰り返させて、所定回数だけ前記励起光を前記基材に通過させ、 前記照射装置は、前記励起光を、前記2つの引出導体部の間隙を進行するように出射して、前記基材に入射させること、 を特徴とする励起光照射装置。

IPC (3)：

G01N 24/00 ( 200 6.01) ,  G01N 21/64 ( 200 6.01) ,  G01R 33/26 ( 200 6.01)

FI (3)：

G01N 24/00 P ,  G01N 21/64 Z ,  G01R 33/26

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 磁場発生源検出装置および磁場発生源検出方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2018-202362   Applicant：スミダコーポレーション株式会社
• ダイヤモンドセンサシステム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2018-164495   Applicant：株式会社デンソー
• 磁気計測装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2016-026993   Applicant：ルネサスエレクトロニクス株式会社
• 磁場測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2013-266648   Applicant：セイコーエプソン株式会社

Cited by examiner (4)

• 磁場発生源検出装置および磁場発生源検出方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2018-202362   Applicant：スミダコーポレーション株式会社
• ダイヤモンドセンサシステム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2018-164495   Applicant：株式会社デンソー
• 磁気計測装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2016-026993   Applicant：ルネサスエレクトロニクス株式会社
• 磁場測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2013-266648   Applicant：セイコーエプソン株式会社