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J-GLOBAL ID：201702235083667856   整理番号：17A0759054

階層的ポリイミドナノ構造において優れた減衰へのグラフェン発泡体の3次元解剖学を利用する【Powered by NICT】

Harnessing Three Dimensional Anatomy of Graphene Foam to Induce Superior Damping in Hierarchical Polyimide Nanostructures

著者 (3件)： Nautiyal Pranjal (Plasma Forming Laboratory, Department of Mechanical and Materials Engineering, Florida International University, Miami, FL, 33174, USA) ,  Boesl Benjamin (Plasma Forming Laboratory, Department of Mechanical and Materials Engineering, Florida International University, Miami, FL, 33174, USA) ,  Agarwal Arvind (Plasma Forming Laboratory, Department of Mechanical and Materials Engineering, Florida International University, Miami, FL, 33174, USA)
資料名： Small  (Small)
巻： 13  号： 10  ページ： ROMBUNNO.201603473  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2348A  ISSN： 1613-6810  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ加工界面を有するグラフェン発泡体をもとにした階層的ポリイミド複合材料は本研究で作製した。グラフェン発泡体の減衰挙動を初めて調べた。マルチスケール機構をグラフェン発泡体における高度に印象的な減衰に寄与している。リップリング,スプリング様層間van der Waals相互作用とグラフェン発泡体分枝の屈曲は固有の,中間層と解剖学的スケールでの減衰の原因であると考えた。単なるポリイミドマトリックスへの1.5wt%グラフェン発泡体添加は損失正接の≒300%と高い改善をもたらした。グラフェンナノプレートレットはナノプレートレットと泡壁の間のイミド化とπ-π相互作用中の高分子収縮を停止することにより発泡ポリマ界面接着を向上させるために採用した。その結果,減衰挙動をさらに発泡体に高分子マトリックスからの効果的な応力伝達に起因する改善された。これらのナノ複合材料の熱酸化安定性は,ポリイミドのガラス転移温度(≒400 °C)に試料を曝露させることにより調べた。そのような極端な温度に曝された,高温構造応用におけるそれらの適合性を証明した後でも複合材料は,それらの減衰特性を保持していることが分かった。それらのユニークな階層的ナノ構造は,技術者とプログラム材料特性に巨大機会を提供する。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *気泡 ,  界面 ,  ガラス転移点 ,  *三次元 ,  ナノ複合材料 ,  高温 ,  高分子 ,  *グラフェン ,  適応性 ,  *ポリイミド ,  *起泡 ,  相互作用 ,  材料特性 ,  *発泡体
準シソーラス用語： ナノプレートレット , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 減衰 ,  グラフェン発泡体 ,  階層ナノ構造 ,  連けいさせるか ,  ポリイミド

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： ポリイミド ,  ナノ構造 ,  減衰 ,  グラフェン ,  発泡体 ,  3次元 ,  解剖学