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J-GLOBAL ID:201702243617146568   整理番号:17A0605059

電気機械結合係数kt2=19%のScAlN厚膜を用いた低周波帯80MHzトランスデューサ

High electromechanical coupling kt2=19% thick ScAlN piezoelectric films for ultrasonic transducer in low frequency of 80MHz
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巻: 117  号: 14(US2017 1-13)  ページ: 59-63  発行年: 2017年04月20日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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20-100MHz帯の超音波は,超音波診断装置と超音波顕微鏡のちょうど間の周波数域に相当し,最適な圧電材料も存在しないことから,これまで空白領域となっていた。しかし,例えば光音響イメージングにおいてこの周波数帯の必要性が高まっている。10-50MHzでは,PVDF高分子膜が使われるが,その電気機械結合係数ktは0.20と小さい。本報告では,RFマグネトロンスパッタ法において,できる限り膜応力が発生しにくいScAlN膜成長を実現し,43μmの厚膜成長を達成した。これより,80MHz帯の低周波においてkt2=19%の高い圧電性を持つScAlNトランスデューサを実現した。(著者抄録)
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分類 (1件):
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音響変換器,その他の機器 
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