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J-GLOBAL ID：201702266086892421   整理番号：17A0463103

半絶縁性暗視野二本バーM1ビルディングブロックのための強度平衡による0.33NA EUVLにおける照明瞳孔最適化

Illumination pupil optimization in 0.33NA EUVL by intensity balancing for semi-iso dark field two-bar M1 building blocks

著者 (4件)： LAST T. (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD) ,  DE WINTER L. (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD) ,  VAN ADRICHEM P. (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD) ,  FINDERS J. (ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10032  ページ： 100320A.1-100320A.7  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最大コントラストの条件下において,半絶縁暗視野二本バーの上部及び底部トレンチのCD Bossungは,強く傾き,大きく縮小した重なりプロセスウィンドウを生じた。空中像分解の応用によりパターン忠実性を回復する方法を説明した。回折次数を横切る強度の平衡化が,照明の最適条件をもたらすことを示した。特に,コントラストとマスク3D効果との間の平衡化を,照明バンドをもつ非対称瞳孔解を導入することにより実現できた。現在,空中像分解及び強度平衡化のこの方法は,サブ分解能支援特徴の最適配置に適応している。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  *照明 ,  *最適化 ,  *視野 ,  画像 ,  無次元数 ,  極端紫外線 ,  *マスク ,  補正 ,  許容範囲 ,  焦点深度 ,  *吸収体 ,  結像
準シソーラス用語： *EUVリソグラフィー ,  *暗視野 ,  回折次数 ,  空中像 ,  *EUVマスク ,  光近接効果補正 ,  プロセスウィンドウ

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光の像形成  (BD03050I)

タイトルに関連する用語 (8件)： 半絶縁性 ,  暗視野 ,  ビルディングブロック ,  平衡 ,  EUVL ,  照明 ,  瞳孔 ,  最適化