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J-GLOBAL ID：201702269938941752   整理番号：17A0658334

テンダー領域斜入射小角X線散乱法によるポリスチレン-b-ポリ(2-ビニルピリジン)薄膜の深さ方向の構造観察

著者 (8件)： 小川紘樹 (京都大学化学研究所) ,  辻岡宏太 (京都大学化学研究所) ,  竹中幹人 (京都大学大学院工学研究科) ,  神谷和孝 (九州大学先導物質化学研究所) ,  杉山武晴 (九州大学シンクロトロン光利用研究センター) ,  金谷利治 (高エネルギー加速器研究機構) ,  高原淳 (九州大学先導物質化学研究所) ,  高原淳 (九州大学シンクロトロン光利用研究センター)
資料名： 高分子論文集  (Japanese Journal of Polymer Science and Technology)
巻： 74  号： 2  ページ： 109-113(J-STAGE)  発行年： 2017年 
JST資料番号： G0122A  ISSN： 0386-2186  CODEN： KBRBA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： テンダー領域の斜入射小角X線散乱法(GISAXS)を用いることで,ポリスチレン-b-ポリ(2-ビニルピリジン)(PS-P2VP)薄膜の深さ方向の構造変化について調べた.臨界組成の本試料は,熱力学的に最安定な状態は基板に平行なラメラ構造を形成することが想定される.本研究では,スピンコートにより製膜した試料とガラス転移温度上にアニールした試料をGISAXS測定により,深さ方向における構造を調べた.製膜試料の測定結果では,基板から表面方向に垂直配向していることがわかった.一方で,アニールした試料を測定した結果から,表面の構造は乱れており,基板近傍では垂直配向が残っていることが示唆された.(著者抄録)

シソーラス用語： *小角X線散乱 ,  *すれすれ入射 ,  *ポリスチレン ,  *P2VP ,  スピンコーティング ,  高分子薄膜 ,  分子配向 ,  焼なまし ,  ガラス転移点 ,  *深さプロフィル ,  *深さ分析 ,  ブロック共重合体 ,  ミクロドメイン ,  流延成形 ,  ラメラ ,  熱力学的安定度
準シソーラス用語： GISAXS ,  アニール処理 ,  ガラス転移温度 ,  *斜入射小角X線散乱 ,  表面自由エネルギー

著者キーワード (4件)： Block Copolymer ,  Thin Films ,  GISAXS ,  Tender X-ray

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  その他の物理分析  (CC03014E)

物質索引 (1件)： 2-ビニルピリジン

引用文献 (12件)：

• 1) W. H. de Jeu, P. Lambooy, and D. Vaknin, Macromolecules, 26, 4973 (1993).
• 2) A. Hexemer and P. Muller-Buschbaum, IUCrJ, 2, 106 (2015).
• 3) J. Wernecke, H. Okuda, H. Ogawa, F. Siewert, and M. Krumrey, Macromolecules, 47, 5719 (2014).
• 4) H. Okuda, K. Takeshita, S. Ochiai, S. Sakurai, and Y. Kitajima, J. Appl. Crystallogr., 44, 380 (2011).
• 5) I. Saito, D. Shimada, M. Aikawa, T. Miyazaki, K. Shimokita, H. Takagi, and K. Yamamoto, Polym. J., 48, 399 (2016).

タイトルに関連する用語 (6件)： 斜入射小角X線散乱 ,  ポリスチレン ,  2-ビニルピリジン ,  薄膜 ,  深さ方向 ,  観察