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J-GLOBAL ID：201702288830492564   整理番号：17A0444804

アルミニウム合金におけるナノサイズけい素析出物内の規則化した積層欠陥【Powered by NICT】

Ordered stacking faults within nanosized silicon precipitates in aluminum alloy

著者 (10件)： Xie Dong Yue (State Key Laboratory of Metal Matrix Composites, School of Materials Science and Engineering, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, PR China) ,  Yan Jiawei (State Key Laboratory of Metal Matrix Composites, School of Materials Science and Engineering, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, PR China) ,  Li Yangxin (State Key Laboratory of Metal Matrix Composites, School of Materials Science and Engineering, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, PR China) ,  Li Yangxin (National Engineering Research Center of Light Alloy Net Forming, School of Materials Science and Engineering, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, PR China) ,  Qiu Dong (School of Engineering, RMIT University, Carlton, VIC 3053, Australia) ,  Wu Guilin (College of Materials Science and Engineering, Chongqing University, Chongqing 400044, PR China) ,  Wang Xiaodong (State Key Laboratory of Metal Matrix Composites, School of Materials Science and Engineering, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, PR China) ,  Chen Bin (State Key Laboratory of Metal Matrix Composites, School of Materials Science and Engineering, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, PR China) ,  Shen Yao (State Key Laboratory of Metal Matrix Composites, School of Materials Science and Engineering, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, PR China) ,  Zhu Guo-zhen (State Key Laboratory of Metal Matrix Composites, School of Materials Science and Engineering, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, PR China)
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 190  ページ： 225-228  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： から5~15nmの範囲のサイズをもつ超微細Si析出物のかなりの量は電気パルス処理後のAl-1Si(wt.%)合金のAlマトリックス中に均一に分散することがわかった。高分解能透過電子顕微鏡(HRTEM)により,異常な9R(ABCBCACAB...)秩序化された積層欠陥はAlマトリックスと(111)Si∥(111)Alと[101]Si//[11 0]Alの方位関係を持つことを切頭四面体形態を持つSi析出物内で同定した。原子モデルを行なっ画像シミュレーションとこれらのナノサイズSi析出物の存在はSiとAlとの間のコインシデンス格子サイトの増加に起因することを説明するために確立した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *合金 ,  原子モデル ,  *析出物 ,  *積層欠陥 ,  電子顕微鏡観察 ,  *アルミニウム ,  *ケイ素 ,  四面体 ,  *アルミニウム合金 ,  コインシデンス格子
準シソーラス用語： イメージシミュレーション ,  HRTEM ,  電気パルス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： アルミニウム合金 ,  沈殿 ,  規則積層欠陥 ,  Interfaces ,  電子顕微鏡観察

分類 (1件)： 変態組織,加工組織  (WB01030N)

タイトルに関連する用語 (6件)： アルミニウム合金 ,  ナノサイズ ,  けい素 ,  析出物 ,  規則化 ,  積層欠陥