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J-GLOBAL ID：200902260638711552   整理番号：04A0041293

クリーンルーム構成材料のアウトガス評価法

クリップ
著者 (5件)：
神戸正純

神戸正純 について

(新日本空調 技研)

新日本空調 技研 について

, 
稲毛亮太

稲毛亮太 について

(新日本空調 技研)

新日本空調 技研 について

, 
高塚威

高塚威 について

(新日本空調 技研)

新日本空調 技研 について

, 
三浦邦夫

三浦邦夫 について

(新日本空調 技研)

新日本空調 技研 について

, 
田辺新一

田辺新一 について

(早稲田大 理工)

早稲田大 理工 について


資料名：
日本建築学会技術報告集  (AIJ Journal of Technology and Design)

日本建築学会技術報告集 について


号： 18  ページ： 175-179  発行年： 2003年12月20日 
JST資料番号： L4777A  ISSN： 1341-9463  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
 半導体の高集積化等に伴い,クリーンルーム環境中の分子状汚染物...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
*半導体工業

半導体工業 について

,...
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ（有料）でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
VOC【化合物】

VOC【化合物】 について


分類 (2件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
 空気浄化 
(PC02060X)

空気浄化 について

,  固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

引用文献 (5件)：
タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
クリーンルーム

クリーンルーム について

, 
アウトガス

アウトガス について

, 
評価法

評価法 について


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