特許

J-GLOBAL ID：201303060872320319

マイクロチップを用いたPET用標識化合物の製造方法及び装置

発明者： 大崎 勝彦 ,  水川 陽介 ,  山▲崎▼ 茂樹 ,  北森 武彦 ,  馬渡 和真 ,  菊谷 善国 ,  青田 新
出願人/特許権者： JFEテクノス株式会社 ,  公益財団法人神奈川科学技術アカデミー
代理人 (1件)： 塩島 利之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-111490
公開番号（公開出願番号）：特開2010-260799
特許番号：特許第5237880号
出願日： 2009年04月30日
公開日（公表日）： 2010年11月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 マイクロチップを用いたPET(Positron Emission Tomography)用標識化合物の製造方法であって、 気相及び液相の流路を有するマイクロチャンネル部と、気相の流路を有すると共に、気相の流路の底部に液相を溜めるプール部を有する微細加工溝部と、を備えるマイクロチップを用い、 前記マイクロチャンネル部及び前記微細加工溝部に溶液を導入して、前記マイクロチャンネル部の流路の表面に溶液をコーティングすると共に、前記微細加工溝部の前記プール部に毛管力を利用して溶液を分散させ、その後、前記マイクロチャンネル部及び前記微細加工溝部に気液反応用ガスを導入して、前記気液反応用ガスと前記マイクロチャンネル部及び前記微細加工溝部の溶液とを気液反応させる工程と、 前記マイクロチャンネル部の溶液を前記微細加工溝部に供給し、前記微細加工溝部の前記プール部に毛管力を利用して溶液を分散させ、その後、前記微細加工溝部に蒸発操作用ガスを導入して、前記微細加工溝部の溶液を蒸留、及び/又は前記微細加工溝部の溶液から溶媒を留去する工程と、 を備えるマイクロチップを用いたPET用標識化合物の製造方法。

IPC (8件)：

C07B 59/00 ( 200 6.01) ,  C07C 323/58 ( 200 6.01) ,  C07C 229/36 ( 200 6.01) ,  C07C 227/16 ( 200 6.01) ,  C07C 319/14 ( 200 6.01) ,  C07C 53/08 ( 200 6.01) ,  C07C 51/15 ( 200 6.01) ,  A61K 51/00 ( 200 6.01)

FI (8件)：

C07B 59/00 ,  C07C 323/58 ,  C07C 229/36 ,  C07C 227/16 ,  C07C 319/14 ,  C07C 53/08 ,  C07C 51/15 ,  A61K 49/02 Z