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J-GLOBAL ID：201402294862599484   整理番号：14A0758374

銅アート錯体を用いた芳香環への位置/化学選択的な水酸基導入反応の開発

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著者 (4件)： 下條弘平 ,  駒川晋輔 ,  滝田良 ,  内山真伸
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 94th  号： 4  ページ： 1225  発行年： 2014年03月12日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 芳香環に直接水酸基を導入する反応は大変有用であるが,これまでその開発は極めて限られてきた。当研究室では,2,2,6,6-テトラメチルピペリジド(TMP)が配位した銅アート錯体(TMP-Cuprate)を用いた,位置選択的・化学選択的な芳香環のオルト位メタル化反応を開発している。またX線結晶構造や計算化学を用いた解析により,その反応機構の詳細について明らかにした。これらを基に,このオルト位メタル化反応の後,生じたアリール銅アート錯体に酸化剤としてtBuOOHを加えることで,選択的に直接水酸基が導入できることを見出した。基質適用範囲および窒素原子の導入についても検討を行ったので併せて報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： *フェノール類 ,  *銅錯体 ,  配位子 ,  メタル化 ,  ヒドロポリオキシド ,  ペルオキシド ,  リチオ化 ,  有機銅化合物 ,  脱プロトン ,  芳香族カルボン酸 ,  *カルボアミド ,  位置特異性反応 ,  反応機構 ,  窒素複素環化合物 ,  脂肪族化合物 ,  *ヒドロキシ化 ,  *アート錯体 ,  ヒドロペルオキシド ,  ベンゼン誘導体 ,  位置選択性反応 ,  ピペリジン類
準シソーラス用語： *ヒドロキシル化 ,  ピペリジン誘導体

分類 (5件)： 第11族,第12族元素の錯体  (CE01050Y) ,  ピリジン  (CF07095Q) ,  脂肪族ペルオキシド・ヒドロペルオキシド  (CF03110G) ,  芳香族単環フェノール類・多価フェノール  (CF05090V) ,  芳香族単環カルボン酸の窒素誘導体  (CF05200S)

物質索引 (4件)： 2,2,6,6-テトラメチルピペリジン ,  N,N-ジイソプロピルベンズアミド ,  tert-ブチルヒドロペルオキシド ,  N,N-ジイソプロピル-2-ヒドロキシベンズアミド

タイトルに関連する用語 (6件)： 銅 ,  アート錯体 ,  芳香環 ,  化学 ,  水酸基 ,  開発