特許

J-GLOBAL ID：201503059381373085

自己組織化酸化物ナノ粒子を用いたナノインプリント用モールドおよびその製造方法、ならびに当該モールドを用いた転写方法

発明者： 廣芝 伸哉 ,  市川 洋
出願人/特許権者： 国立大学法人 名古屋工業大学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-223852
公開番号（公開出願番号）：特開2015-085549
出願日： 2013年10月29日
公開日（公表日）： 2015年05月07日
要約：

【課題】簡便、安価、かつ微細パターンを有するナノインプリント用モールドおよびその製造方法、ならびに当該モールドを用いた転写方法を提供する【解決手段】自己組織化で形成され、モールドの凸部表面の少なくとも一部が酸化物であるナノインプリント用モールド。有機金属化合物を含む有機溶液を基板上に塗布し、乾燥させ、さらに600°C〜900°C、大気中にて焼成し、さらにリアクティブイオンエッチングを行い、ナノインプリント用モールドを製造する。このナノインプリント用モールドを用いて、硬化性樹脂あるいは光硬化性樹脂にパターンを転写する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

自己組織化で形成され、モールドの凸部表面の少なくとも一部が酸化物であるナノインプリント用モールド。

IPC (3件)：

B29C 59/02 ,  H01L 21/027 ,  B29C 33/38

FI (3件)：

B29C59/02 B ,  H01L21/30 502D ,  B29C33/38

Fターム (28件)：

4F202AA36 ,  4F202AA44 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH63 ,  4F202AJ02 ,  4F202AJ09 ,  4F202AR06 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD24 ,  4F202CK12 ,  4F209AA36 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH63 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ02 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA28 ,  5F146AA31 ,  5F146AA32