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J-GLOBAL ID：201702245993314253   整理番号：17A0491169

電場印加によるアンモニア合成促進効果の検討

著者 (7件)： 村上洸太 (早稲田大) ,  中坪秀彰 (早稲田大) ,  真鍋亮 (早稲田大) ,  小河脩平 (早稲田大) ,  常木英昭 (日本触媒) ,  池田昌稔 (日本触媒) ,  関根泰 (早稲田大)
資料名： 触媒討論会講演予稿集
巻： 119th  ページ： 111  発行年： 2017年03月10日 
JST資料番号： F1143A  ISSN： 2187-5928  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Cs/Ru/SrZrO₃を用いたアンモニア合成において,電場を印加することで低温においても高い合成活性を示した。そこで,電場印加によるアンモニア合成促進の詳細なメカニズムを解明するために,印加電流値と合成活性の関係を検討した。結果から,電力・温度がほぼ一定の条件下で電流値の上昇とともに活性が向上することがわかった。従って,電場印加時には伝導種が活性向上に寄与していると考えられる。(著者抄録)

シソーラス用語： *ルテニウム触媒 ,  *セシウム ,  担持触媒 ,  ストロンチウム化合物 ,  ジルコニウム化合物 ,  *酸化物 ,  化学合成 ,  触媒調製 ,  触媒反応 ,  *電場効果 ,  *窒素 ,  水素 ,  *接触還元 ,  *アンモニア ,  触媒活性 ,  温度依存性 ,  反応機構
準シソーラス用語： 電場触媒反応 ,  電流依存性

分類 (2件)： 触媒の性質一般  (CB06121R) ,  酸化,還元  (CF02060T)

タイトルに関連する用語 (3件)： 電場印加 ,  アンモニア合成 ,  促進