文献

J-GLOBAL ID：202202274758500946   整理番号：22A0139731

パルス電析法による高B_sCoFe薄膜の低H_c化

Decrease in H_c of high-B_s CoFe thin films by means of pulsed electrodeposition

著者 (7件)： 平岩稔久 (早大 理工 材研) ,  瀬沼宏樹 (早大 理工 材研) ,  中西卓也 (早大 理工 材研) ,  杉山敦史 (早稲田大 大学院) ,  逢坂哲彌 (早大 理工 材研) ,  逢坂哲彌 (早稲田大 大学院) ,  逢坂哲彌 (早大 理工総研)
資料名： 日本応用磁気学会学術講演概要集  (Digest of the Annual Conference on Magnetics in Japan)
巻： 28th (CD-ROM)  ページ： 5  発行年： 2004年 
JST資料番号： Y0056A  ISSN： 1340-8100  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 磁気ヘッド ,  *軟磁性材料 ,  *鉄合金 ,  *コバルト含有合金 ,  *磁性薄膜 ,  *保磁力 ,  磁場熱処理 ,  *飽和磁化 ,  *電着 ,  *パルス ,  微粒子 ,  結晶度 ,  微細構造 ,  *薄膜成長 ,  磁気ヒステリシス ,  *磁気記録材料 ,  心材 ,  材料

分類 (2件)： 電子・磁気・光学記録  (NC06020F) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (4件)： パルス ,  電析 ,  薄膜 ,  HC