特許
J-GLOBAL ID：201103047032670440
細胞培養足場および細胞培養方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉本 勝徳
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-127341
公開番号（公開出願番号）：特開2005-278609
特許番号：特許第4585790号
出願日： 2004年03月27日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】塑性変形可能な材料で形成されている基材と、
基材表面にレーザーアブレーション法によって細胞培養したい形状に形成され、ハイドロキシアパタイト薄膜層からなる生体親和部と、
基材表面の生体親和部に隣接し、非生体親和性材料または難生体親和性材料からなる非生体親和部と、
を備える細胞培養足場。
IPC (3件)：
C12M 3/00 ( 200 6.01)
, C12N 5/10 ( 200 6.01)
, C12N 5/071 ( 201 0.01)
C12M 3/00 A
, C12N 5/00 102
, C12N 5/00 202 A
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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引用文献：
出願人引用 (1件)
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第25回日本バイオマテリアル学会大会 予稿集, 20031216, 103
審査官引用 (1件)
-
第25回日本バイオマテリアル学会大会 予稿集, 20031216, 103
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