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J-GLOBAL ID：201802289007973724   整理番号：18A0121748

磁性エピタキシャル単結晶二層膜の磁歪

Magnetostriction of Magnetic Epitaxial Single-Crystal Bi-Layer Films

著者 (7件)： 大竹充 (中央大 理工) ,  大竹充 (工学院大 工) ,  芹澤伽那 (中央大 理工) ,  川井哲郎 (中央大 理工) ,  二本正昭 (中央大 理工) ,  桐野文良 (東京藝術大 大学院美術研究科) ,  稲葉信幸 (山形大 工)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 117  号： 338(MR2017 26-41)  ページ： 47-50  発行年： 2017年11月30日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 磁性単結晶Ni(t nm)/Ni₅₀Co₅₀(100-t nm)(at.%)二層膜をCu(100)単結晶下地層上に形成し,層厚比が磁歪に及ぼす影響を調べた。二層膜の厚さは100nm一定とし,層厚を0から100nmの間で変化させた。Ni₅₀Co₅₀単層膜(t=0nm)の磁歪定数λ₁₀₀は正の値(+1×10^-4)であったのに対して,Ni単層膜(t=100nm)は負の値(-6×10^-5)を示した。t値の増加に伴い,二層膜のλ₁₀₀は正から負の値に単調に減少した。t=62nmでほぼゼロとなった。一方,λ₁₁₁は,いずれのt値に対しても負の値となり,t値が0から100nmに増加すると,-4×10^-5から-2×10^-5に僅かに増加した。本研究により,正と負の磁歪定数を持つ磁性材料を組み合わせることにより,磁歪を低減できることが示された。(著者抄録)

シソーラス用語： 磁歪 ,  *エピタクシー ,  単結晶 ,  多層膜 ,  *磁性薄膜 ,  ニッケル ,  コバルト ,  定数 ,  *金属薄膜

分類 (3件)： 磁性材料  (NA04040H) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  金属薄膜  (BK14030T)

引用文献 (7件)：

• H. A. M. de Gronckel, K. Kopinga, W. J. M. de Jonge, P. Panissod, J. P. Schill?, and F. J. A. den Broeder, Phys. Rev. B, 44, 9100 (1991).
• M. Ohtake, O. Yabuhara, J. Higuchi, and M. Futamoto, J. Appl. Phys., 109, 07C105 (2011).
• K. Serizawa, T. Kawai, M. Ohtake, M. Futamoto, F. Kirino, and N. Inaba, IEEE Trans. Magn., 53, 2004204 (2017).
• S. Ishio, T. Kobayashi, H. Saito, S. Sugawara, and S. Kadowaki, J. Magn. Magn. Mater., 164, 208 (1996).
• E. Klokholm, IEEE Trans. Magn., 12, 819 (1976).

タイトルに関連する用語 (5件)： 磁性 ,  エピタキシャル ,  単結晶 ,  二層膜 ,  磁歪