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J-GLOBAL ID：200902212308260096   整理番号：07A0377766

Hf系ゲート絶縁膜/電極界面の実効仕事関数変調機構の統一的理解

著者 (10件)： 喜多祐起 (大阪大 大学院工学研究科) ,  吉田慎一 (大阪大 大学院工学研究科) ,  志村考功 (大阪大 大学院工学研究科) ,  安武潔 (大阪大 大学院工学研究科) ,  渡部平司 (大阪大 大学院工学研究科) ,  白石賢二 (筑波大) ,  大田晃生 (広島大) ,  宮崎誠一 (広島大) ,  奈良安雄 (半導体先端テクノロジーズ) ,  山田啓作 (早稲田大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 54th  号： 2  ページ： 848  発行年： 2007年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *絶縁膜 ,...
準シソーラス用語： 変調

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分類 (1件)： 金属-絶縁体-半導体構造  (BM03085X)

タイトルに関連する用語 (6件)： HF ,  ゲート絶縁膜 ,  電極界面 ,  仕事関数 ,  変調 ,  理解