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J-GLOBAL ID：200902228878667576   整理番号：09A0621668

液中プラズマCVD法を用いたダイヤモンドの高速成膜と大面積成膜

著者 (5件)： 石丸洋平 (愛媛大) ,  野村信福 (愛媛大) ,  豊田洋通 (愛媛大) ,  高橋克征 (愛媛大) ,  向笠忍 (愛媛大)
資料名： 日本機械学会中国四国支部総会・講演会講演論文集  (日本機械学会中国四国支部総会・講演会講演概要集)
巻： 47th  ページ： 101-102  発行年： 2009年02月26日 
JST資料番号： L0015A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 液中プラズマCVD法によるダイヤモンドの高速成膜と大面積成膜についての研究成果を報告する。2.45GHzのマイクロ波をアルコール溶液に照射して液中プラズマを発生させ,シリコン基板上にダイヤモンドを生成した。本研究では成膜時の圧力と電極直径を変化させて実験を行った。その結果,圧力の増加に伴い成膜速度が,電極直径の増加に伴い生成膜の面積がそれぞれ増加した。また,成膜時の圧力,電極形状,気相法か液中法かという生成法の違いによらず単位体積のダイヤモンドの生成に必要な電力は1kWh/mm³前後だった。(著者抄録)

シソーラス用語： プラズマ装置 ,  マイクロ波放電 ,  マイクロ波照射 ,  *プラズマCVD ,  ダイヤモンド ,  薄膜 ,  製膜 ,  *薄膜成長 ,  *液中 ,  *ダイヤモンド膜 ,  マイクロ波プラズマ ,  鉱石 ,  宝石
準シソーラス用語： マイクロ波誘導プラズマ ,  プラズマ励起化学気相法 ,  膜成長

分類 (3件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (6件)： 液中プラズマ ,  CVD法 ,  ダイヤモンド ,  高速成膜 ,  大面積 ,  成膜