特許

J-GLOBAL ID：200903055709657440

無機系および有機無機ハイブリッドコーティングの製造方法

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発明者： 中西 和樹 ,  金森 主祥
出願人/特許権者： 中西 和樹
代理人 (1件)： 喜多 俊文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-077047
公開番号（公開出願番号）：特開2005-262057
出願日： 2004年03月17日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：

【課題】本発明は、多孔質部材の内部表面あるいは微細加工された溝状流路あるいは毛細管内に、無機系および有機無機ハイブリッド系コーティングを製造することを目的とする。【解決手段】本発明は、例えばテトラメトキシシラン(TMOS)、ホルムアミド(FA)、1モル濃度硝酸水溶液を、モル比でTMOS:FA:H2O=1:2.3~2.5:1.5となるように混合し、得られた反応溶液に多孔質部材を浸してマクロ孔内部に導入し、40°Cでゲル化後乾燥させてコーティングを行う。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

相分離に基づく界面への濡れ転移と反応液体を固化させるゾル-ゲル転移が同時に起こるようにして、少なくとも1次元が制限された大きさをもつ中空部材あるいは多孔質部材の内壁に形成される、無機系および有機無機ハイブリッド系コーティングの作製法。

IPC (2件)：

B05D7/22 ,  B05D7/24

FI (2件)：

B05D7/22 Z ,  B05D7/24 302Y

Fターム (17件)：

4D075CA47 ,  4D075DA15 ,  4D075DA19 ,  4D075DA25 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB54 ,  4D075DC16 ,  4D075EA12 ,  4D075EB19 ,  4D075EB20 ,  4D075EB22 ,  4D075EB32 ,  4D075EB37 ,  4D075EB43 ,  4D075EB47 ,  4D075EC03

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 多孔質材料のコーティング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-121590   出願人：昭和高分子株式会社
• クロマトグラフィ分離のための多孔質の無機/有機ハイブリッド粒子、及び、その調製プロセス
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-597060   出願人：ウォーターズインベストメンツリミテッド

審査官引用 (4件)

• 無機多孔質材料の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-010125   出願人：曽我直弘, 中西和樹, 有限会社エム・アール・シー
• クロマトグラフィー用多孔質体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-107666   出願人：ジーエルサイエンス株式会社
• 二酸化炭素分離膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-176776   出願人：財団法人電力中央研究所
• 高速液体クロマトグラフ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-271150   出願人：中西和樹, 株式会社京都モノテック