特許

J-GLOBAL ID：200903068655381723

フォトマスク補修用インキ組成物及びフォトマスク補修方法

発明者： 三枝 栄子 ,  巖本 政博
出願人/特許権者： 三ツ星ベルト株式会社
代理人 (1件)： 鍬田 充生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-072353
公開番号（公開出願番号）：特開2009-229593
出願日： 2008年03月19日
公開日（公表日）： 2009年10月08日
要約：

【課題】微細なパターンを有するフォトマスクを簡便にかつ効率良く補修できるインキ組成物を提供する。【解決手段】金属コロイド粒子、この金属コロイド粒子の分散媒及び有機金属化合物を含むフォトマスク補修用インキ組成物において、前記金属コロイド粒子を、金属ナノ粒子(A)とこの金属ナノ粒子(A)を被覆する保護コロイド(B)とで構成し、かつ前記保護コロイド(B)が、アミン類(B1)とカルボン酸類(B2)とで構成する。前記金属ナノ粒子(A)を構成する金属は銀単体であり、金属ナノ粒子(A)の平均粒子径は1〜10nmであってもよい。このインキ組成物をフォトマスク欠陥部に滴下し、加熱して焼成処理すると、有効にフォトマスクの補修できる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

金属コロイド粒子、この金属コロイド粒子の分散媒及び有機金属化合物を含むインキ組成物であって、前記金属コロイド粒子が、金属ナノ粒子(A)とこの金属ナノ粒子(A)を被覆する保護コロイド(B)とで構成され、かつ前記保護コロイド(B)が、アミン類(B1)とカルボン酸類(B2)とで構成されているフォトマスク補修用インキ組成物。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  C09D 11/02

FI (2件)：

G03F1/08 W ,  C09D11/02

Fターム (8件)：

2H095BD33 ,  2H095BD39 ,  4J039BA06 ,  4J039BC19 ,  4J039BC33 ,  4J039BC59 ,  4J039BE12 ,  4J039CA07

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 金属被膜欠陥修正方法および金属被膜欠陥修正装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-267699   出願人：東京プロセスサービス株式会社