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J-GLOBAL ID：201102217149448534   整理番号：11A0175020

溶液レーザーアブレーション法によるキナクリドンキノンのナノ粒子作製

著者 (3件)： 大畠正裕 (和歌山大 大学院システム工学研究科) ,  尾崎信彦 (和歌山大 大学院システム工学研究科) ,  秋元郁子 (和歌山大 大学院システム工学研究科)
資料名： 光物性研究会論文集  (Proceedings of the Symposium of Association for Condensed Matter Photophysics, Japan)
巻： 21st  ページ： 426-429  発行年： 2010年 
JST資料番号： L3956A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *レーザアブレーション ,  *ナノ粒子 ,  発光ダイオード ,  *コロイド ,  *超微粒子 ,  キノン ,  吸収スペクトル ,  工程 ,  ζ電位 ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族縮合化合物 ,  ジケトン ,  *ナノコロイド ,  有機EL素子
準シソーラス用語： ウェットプロセス ,  キノン類 ,  *レーザアブレーション法

分類 (2件)： 試料技術  (BA02070O) ,  レーザの応用  (BD04100V)

物質索引 (1件)： キナクリドン

タイトルに関連する用語 (4件)： 溶液 ,  レーザーアブレーション法 ,  ナノ粒子 ,  作製