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J-GLOBAL ID：201102218462300854   整理番号：11A0902264

液中プラズマ化学蒸着によるダイヤモンドの生成に適する基板の検討

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著者 (5件)： 豊田洋通 (愛媛大) ,  河島直哉 (愛媛大) ,  野村信福 (愛媛大) ,  向笠忍 (愛媛大) ,  服部吉晃 (愛媛大)
資料名： 日本機械学会中国四国支部総会・講演会講演論文集  (日本機械学会中国四国支部総会・講演会講演概要集)
巻： 49th  ページ： 423-424  発行年： 2011年02月23日 
JST資料番号： L0015A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 液中プラズマ化学蒸着法におけるダイヤモンドの生成には,基板の材質や表面処理方法が重要である。本研究では基板の材質や表面処理方法を変化させ,液中プラズマ化学蒸着法における適切な基板の材質と表面処理方法の実験を行った。適切な基板の材質と表面処理方法ではSiにダイヤモンドパウダーを用いて研磨を行った基板が良好な結果が得られた。また,実験に用いた基板の温度における線膨張係数を比較し,ダイヤが成膜できた基板ではダイヤモンドの線膨張係数の曲線に近いことが分かり,Siが最も近似しており最適だと考えられる。(著者抄録)

シソーラス用語： *プラズマCVD ,  *ダイヤモンド ,  *基板 ,  *膨張係数 ,  表面処理 ,  研磨 ,  *薄膜 ,  *ダイヤモンド膜 ,  線膨張係数 ,  *薄膜形成 ,  *鉱石 ,  *宝石 ,  機械工作
準シソーラス用語： *成膜

分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (3件)： 液中プラズマ ,  化学蒸着 ,  ダイヤモンド