特許

J-GLOBAL ID：201103072763040660

基板上に形成される多孔質材料の製造法

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発明者： 曽我 直弘 ,  中西 和樹 ,  公文 創一
出願人/特許権者： 曽我 直弘 ,  中西 和樹 ,  有限会社エム・アール・シー
代理人 (1件)： 喜多 俊文
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-087782
公開番号（公開出願番号）：特開2000-281329
特許番号：特許第4280860号
出願日： 1999年03月30日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ゾル-ゲル転移と相分離を誘起させて、基板上に約100nm以上の巨大空孔となる溶媒リッチ相と約100nm以上の担体部となる骨格相を持つゲル膜を作製し、続いて加熱処理することにより、溶媒リッチ相領域あるいは骨格相領域の形状が、ゲル相の厚さを貫く円柱形、あるいはゲル相の厚さを貫き溶媒リッチ相および骨格相が基板に平行な次元に共連続である形態、あるいはゲル相の厚さより小さい円盤形および液滴形に分散した溶媒リッチ相領域からなる、均質な多孔構造を持ったゲルを作製することを特徴とする薄層クロマトグラフィー用多孔質体の製造方法。

IPC (1件)：

C01B 33/14 ( 200 6.01)

FI (1件)：

C01B 33/14

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-193708
  
• 特開平4-280802
  
• シリカ系多孔体及びこれを用いた分離方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-247298   出願人：株式会社豊田中央研究所, 富士シリシア化学株式会社
• 有機-無機複合体および無機多孔質体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-189731   出願人：旭化成工業株式会社