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J-GLOBAL ID：201202274668973680   整理番号：12A0683761

プラズマCVD法を用いたDLC薄膜生成に関する研究

著者 (4件)： 森川敬之 (愛媛大) ,  向笠忍 (愛媛大) ,  豊田洋通 (愛媛大) ,  野村信福 (愛媛大)
資料名： 日本機械学会中国四国支部総会・講演会講演論文集(CD-ROM)  (日本機械学会中国四国支部総会・講演会(CD-ROM))
巻： 50th  ページ： ROMBUNNO.1316  発行年： 2012年02月28日 
JST資料番号： L0015B  ISSN： 2424-2764  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では,気液界面上で高周波プラズマを発生させ,さらに基板に負のバイアス電圧を印加した条件下でのDLC薄膜の生成実験を実施した。さらにプラズマの分光測定を実施し,電子温度とガス温度を求め,バイアス電圧の有無によるこれらのパラメータへの影響を確認することとした。その結果として,基板にバイアス電圧を印加することにより成膜によって得られる膜の硬度が増加することが分かった。また,バイアス電圧を印加することにより基板付近の電子温度,ガス温度が増加することが分かった。(著者抄録)

シソーラス用語： *プラズマCVD ,  *ダイヤモンド状炭素 ,  電圧 ,  温度変動 ,  スペクトロスコピー ,  薄膜形成
準シソーラス用語： DLC【炭素】 ,  バイアス電圧

分類 (2件)： 気相めっき  (WC08022K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： プラズマCVD法 ,  DLC薄膜 ,  研究