特許
J-GLOBAL ID:201403025304787412

プラズマ発生手段、プラズマ発生装置及び元素分析方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 柴田 淳一
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-045967
公開番号(公開出願番号):特開2011-180045
特許番号:特許第5530222号
出願日: 2010年03月02日
公開日(公表日): 2011年09月15日
請求項(抜粋):
【請求項1】 絶縁性材料で形成した流路に同流路の断面積よりも著しく小さな断面積の狭小部を形成し、同狭小部を挟んだ前後をそれぞれ第1及び第2の流路とし、同第1及び第2の流路内にそれぞれ第1及び第2の電極を配置するとともに、前記第1及び第2の流路並びに狭小部に導電性溶液を満たし、前記電極間に電流を流して前記狭小部に集中的に電界を印加させることによって生ずる気泡中にプラズマを発生させる一方、前記第1の流路から第2の流路方向に向って導電性溶液を流動させることで前記狭小部に留まる気泡を前記狭小部から排出するとともに前記第1及び第2の電極の周囲に発生した気泡を取り除くようにし、前記電極間に所定のオン時間と所定のオフ時間の繰り返しによって電流を流す際に少なくとも導電性溶液が前記狭小部の位置から前記第2の電極位置を通過する時間よりも長いオフ時間を設けることを特徴とするプラズマ発生手段。
IPC (2件):
G01N 21/69 ( 200 6.01) ,  H05H 1/24 ( 200 6.01)
FI (2件):
G01N 21/69 ,  H05H 1/24
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献:
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