文献

J-GLOBAL ID：201702221587302729   整理番号：17A0764805

CF4ラジオ周波数容量結合プラズマで改質したシリコーンゴムの表面疎水性の改善【Powered by NICT】

Improvement of surface hydrophobicity on silicone rubber modified by CF4 radio frequency capacitively coupled plasma

著者 (3件)： GAO Song-hua (School of Physics Science and Technology, Central South University) ,  ZHOU Ke-sheng (School of Physics Science and Technology, Central South University) ,  WEN Li-shi (School of Physics Science and Technology, Central South University)
資料名： Journal of Central South University of Technology  (Journal of Central South University of Technology)
巻： 16  号： 3  ページ： 365-370  発行年： 2009年06月 
JST資料番号： W1117A  ISSN： 1005-9784  CODEN： JCSTFT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 表面疎水性を改善するために,シリコーンゴム(SIR)サンプルをCF4高周波数(RF)容量結合プラズマ(CCP)に曝露した。減衰全反射Fourier変換赤外(ATR FTIR)スペクトルとX線光電子分光法(XPS)を改良型SIRの官能基の変化を観察した。静的接触角(SCA)は,改質SIRの疎水性変化を推定した。SIRの表面エネルギーは2.94mJm 5分の処理時間200WのRFパワーでC F4CCP修飾で処理したSIR試料の元のSIR試料の27.37から大きく減少した。XPS,ATR-FTIRと表面エネルギー解析によれば,改良型SIR表面上の疎水性の改善は,主に表面エネルギーの減少,SIR表面のメチル置換反応と残留メチル基により誘起されたSi-FまたはSiF2のフルオロけい構造とC-CFnのフッ素基の協力により引き起こされるに起因していることが示唆された。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 接触角 ,  X線光電子スペクトル ,  *疎水性 ,  HF【周波数】 ,  置換反応 ,  X線光電子分光法 ,  表面エネルギー ,  Fourier変換 ,  フッ素 ,  *シリコーンゴム ,  加工時間 ,  エネルギー解析 ,  官能基 ,  減衰全反射 ,  *表面疎水性 ,  *容量結合プラズマ ,  時間 ,  加工条件 ,  条件

著者キーワード (4件)： 表面疎水性 ,  シリコーンゴム ,  容量結合プラズマラジオ振動数 ,  静的接触角

分類 (3件)： 無機重合体  (YH07140R) ,  ゴム  (YH07020M) ,  絶縁材料  (NA04030W)

タイトルに関連する用語 (5件)： ラジオ ,  容量結合プラズマ ,  改質 ,  シリコーンゴム ,  表面疎水性