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J-GLOBAL ID:201702291332013742   整理番号:17A0057901

>260GHz f_Tを用いた高性能超四元InAlGaN障壁H EMT【Powered by NICT】

High performance ultra-thin quaternary InAlGaN barrier HEMTs with fT > 260 GHz
著者 (5件):
資料名:
巻: 2016  号: SSLChina: IFWS  ページ: 101-103  発行年: 2016年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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SiC基板上の四元バリアInAlGaN/AlN/GaNヘテロ構造に基づくデプレッションモード高電子移動度トランジスタ(HEMT)を作製した。60nm矩形ゲートは,電子ビームリソグラフィーとそれに続くNi/Au(20 nm/80 nm)金属蒸発により定義した。このデバイスは,2.5mmの高DCドレイン電流密度,線形領域で0.94Ω・mmの低オン抵抗R_on,0.97mmの高ピーク外因性相互コンダクタンス,および261GHzの高い電流利得カットオフ周波数を示した。に加えて,15.7GHzμmの高f_T L_g製品が達成された。ドレイン誘起障壁低下(DIBL)はI_D=1mA/mmで200mV/Vと計算され,このデバイスの中程度の短チャネル効果を意味している。我々の知る限りでは,これはゲート長さが約60nmのGaNベースH EMTのための最良のf_T性能の一つである。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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