文献

J-GLOBAL ID：200902179975061533   整理番号：00A0205367

フォトレフレクタンス分光法によるゲート酸化膜に導入されたチャージングダメージの光学的評価

Optical Characterization of Gate Oxide Charging Damage by Photoreflectance Spectroscopy.

著者 (7件)： 阿形真司 (大阪大 大学院) ,  寒川雅之 (大阪大 大学院) ,  毎田修 (大阪大 大学院) ,  江利口浩二 (松下電子工業 プロセス開セ) ,  藤本晶 (和歌山工高専) ,  金島岳 (大阪大 大学院) ,  奥山雅則 (大阪大 大学院)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 99  号： 491(SDM99 163-176)  ページ： 75-80  発行年： 1999年12月09日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Arプラズマ照射によってチャージングダメージを与えられたMO...

シソーラス用語： フォトリフレクタンス ,...
準シソーラス用語： プラズマプロセシング ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=00A0205367&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=S0532B") }}

分類 (3件)： トランジスタ  (NC03070N) ,  固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G) ,  信頼性  (KB04040H)

引用文献 (6件)：

• NOGUCHI, K. Proc. of Int. Symp. on P2ID, 1998. 1998, 176
• HORNER, G. S. Proc. of Int. Symp. on P2ID, 1998. 1998, 144
• ASPENS, D. E. Surf. Sci. 1967, 37, 418
• GLEMBOCKI, O. J. Appl. Phys. Lett. 1985, 46, 970
• OEHRLEIN, ottlibe S. J. Appl. Phys. 1986, 59, 3053

タイトルに関連する用語 (5件)： フォト ,  レフレクタンス ,  分光法 ,  ゲート酸化膜 ,  光学的評価