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J-GLOBAL ID：201102244684748447   整理番号：11A1194249

レーザによる微粒子生成 ガス中パルスレーザアブレーションでのSiナノ構造の生成過程に対するパルス励起の効果

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著者 (1件)： 梅津郁朗 (甲南大 理工)
資料名： レーザ加工学会誌  (Journal of Japan Laser Processing Society)
巻： 17  号： 3  ページ： 93-98  発行年： 2010年07月 
JST資料番号： L3905A  ISSN： 1881-6797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ガス中でのパルスレーザーアブレーション法によってナノ結晶の作成が可能なことはよく知られている。この方法はパルス励起が最大の特徴であるがパルス励起過程によるナノ結晶およびその集合体構造の形成に関しては不明な点が多い。本論文では水素ガスおよび窒素ガス中でシリコンナノ結晶を作成しその表面構造と凝集構造を詳細に調べた。プルーム分光,表面水素化,表面窒化およびフラクタル凝集構造の結果から,ナノ結晶化過程,表面形成過程および凝集構造形成過程に対するパルス励起の効果を明らかにした。(著者抄録)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *ナノ粒子 ,  *レーザアブレーション ,  パルスレーザ ,  レーザ励起

分類 (1件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S)

引用文献 (37件)：

• 1) Makimura, T., Kunii, Y. and Murakami, K.: Light Emission from Nanometer-Sized Silicon Particles Fabricated by the Laser Ablation Method, Jpn. J. Appl. Phys., Part I, 35, (1996), 4780.
• 2) Movtchan, I.A., Dreyfus, R.W., Marine, W., Sentis, M., Autric, M., Lay, G.L. and Merk, N.: Luminescence from a Si-SiO2 nanocluster- like structure prepared by laser ablation, Thin Solid Films, 255, (1995), 286.
• 3) Werwa, E., Seraphin, A.A., Chiu, L.A., Zhou, C. and Kolenbrander, K.D.: Synthesis and processing of silicon nanocrystallites using a pulsed laser ablation supersonic expansion method, Appl. Phys. Left., 64, (1994), 1821.
• 4) Yamada, Y., Orii, T., Umezu, I., Takeyama, S. and Yoshida, T.: Optical Properties of Silicon Nanocrystallites Prepared by Excimer Laser Ablation in Inert Gas, Jpn. J. Appl. Phys., 35, (1996), 1361.
• 5) Yoshida, T., Takeyama, S., Yamada, Y. and Mutoh, K.: Nanometer- sized silicon crystallites prepared by excimer laser ablation in constant pressure inert gas, J. Appl. Phys., 68, (1996), 1772.

タイトルに関連する用語 (8件)： レーザ ,  微粒子 ,  パルスレーザアブレーション ,  Si ,  ナノ構造 ,  過程 ,  パルス ,  励起