抄録/ポイント: 抄録/ポイント
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本研究の目的は種々の基板上に,液中プラズマCVD法を用いてダイヤモンド膜を形成することである。本報告では,基板として,銅およびダイヤモンドを用いている。銅基板上には,多結晶ダイヤモンド膜が形成されたが,銅とダイヤモンドの熱膨張係数の差が大きく,剥離が発生した。ダイヤモンド単結晶基板上では,(100)基板上には,エピタキシャル成長し,(111)基板上には,多結晶ダイヤモンド膜が形成された。膜生成速度は32μm/hであった。(著者抄録)