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J-GLOBAL ID：202302225394578505   整理番号：23A0204802

メモリ応用に向けた(Al,Sc)N膜の薄膜化の検討

Examination of scaling down in (Al, Sc)N films for memory applications

著者 (15件)： 安岡慎之介 (東京工大) ,  大田怜佳 (東京工大) ,  岡本一輝 (東京工大) ,  石濱圭佑 (東京工大) ,  清水荘雄 (物材研) ,  清水荘雄 (JST-さきがけ) ,  角嶋邦之 (東京工大) ,  上原雅人 (産業技術総合研) ,  山田浩志 (産業技術総合研) ,  秋山守人 (産業技術総合研) ,  小金澤智之 (JASRI) ,  KUMARA L. S. R. (JASRI) ,  SEO O. (JASRI) ,  坂田修身 (JASRI) ,  舟窪浩 (東京工大)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 83rd  ページ： ROMBUNNO.20p-B103-6  発行年： 2022年08月26日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

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シソーラス用語： X線回折 ,...

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分類 (2件)： 蛋白質・ペプチド一般  (EB03010N) ,  脂質一般  (EB05010B)

タイトルに関連する用語 (4件)： 応用 ,  Al ,  Sc ,  薄膜化