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J-GLOBAL ID：201502282824389173   整理番号：15A0674644

シリコン系太陽電池の高効率化に向けたプラズマCVDの科学 2.気相の物理・化学 2.1 シリコン薄膜形成プロセスにおけるプラズマ中の水素原子の計測とその挙動

著者 (7件)： 堀勝 (名古屋大) ,  阿部祐介 (科学技術振興機構) ,  竹田圭吾 (名古屋大) ,  石川健治 (名古屋大) ,  近藤博基 (名古屋大) ,  関根誠 (名古屋大) ,  HAN G.Jeon (成均館大(韓国))
資料名： プラズマ・核融合学会誌  (Journal of Plasma and Fusion Research)
巻： 91  号： 5  ページ： 317-322  発行年： 2015年05月25日 
JST資料番号： G0114A  ISSN： 0918-7928  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： プラズマプロセスによるシリコン薄膜太陽電池の工業化がなされて以来,約35年が経つ。多くの研究者が,シリコン薄膜太陽電池を構成するアモルファスシリコン薄膜や微結晶シリコン薄膜を形成するために,プラズマ中の活性種の反応機構の構築に取り組んできた。しかしながら,シランと水素ガスを混合したプラズマによる薄膜形成に極めて重要な役割を演じている水素原子の絶対密度やその表面損失確率に関する情報はほとんど明らかにされていない。本節では,プラズマを用いたシリコン薄膜形成プロセスにおいて,真空紫外吸収分光法を用いて,水素原子の密度とその挙動を定量的に明らかにした。これらの情報の集積は,試行錯誤的なプラズマプロセスの開発から科学を基軸としたプロセス(プロセス科学)へのパラダイムシフトをもたらすことが期待される。(著者抄録)

シソーラス用語： *プラズマ処理 ,  *プラズマCVD ,  *太陽電池 ,  *ケイ素 ,  半導体薄膜 ,  *薄膜成長 ,  プラズマ診断 ,  吸光分光分析
準シソーラス用語： *シリコン ,  シリコン薄膜 ,  真空紫外吸収分光法 ,  アモルファスシリコン薄膜 ,  微結晶シリコン

分類 (3件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  プラズマ診断  (BJ02090L) ,  プラズマ生成・加熱  (BJ02060E)

引用文献 (20件)：

• R.C. Chittick et al., J. Electrochem. Soc. SOLID STATE SCIENCE 116, 77 (1969).
• W.E. Spear and P.G. LeComber, Solid State Commun. 17, 1193 (1975).
• Y. Kuwano et al., Proc. 14th IEEE PVSC (San Diego, 1980) p. 1402A.
• S.R. Madan et al., Phil. Mag. B40, 259 (1979).
• A. Matsuda, Jpn. J. Appl. Phys. 43, 7909 (2004).

タイトルに関連する用語 (14件)： シリコン ,  太陽電池 ,  高効率化 ,  プラズマCVD ,  科学 ,  気相 ,  物理 ,  化学 ,  薄膜形成 ,  プロセス ,  プラズマ ,  水素原子 ,  計測 ,  挙動