研究者
J-GLOBAL ID:200901010307751821   更新日: 2024年11月05日

永沼 博

ナガヌマ ヒロシ | Naganuma Hiroshi
所属機関・部署:
職名: 教授
その他の所属(所属・部署名・職名) (5件):
  • 工学部電子情報物理工学科
  • スピントロニクス学術連携センターCSRN
  • 先端スピントロニクス研究開発センターCSIS
  • 名古屋大学  国際高等研究機構   特任准教授
  • 名古屋大学  未来材料・システム研究所 材料創製部門   特任准教授
ホームページURL (2件): https://scholar.google.co.jp/citations?user=eoV8nhsAAAAJ&hl=ja&oi=aohttp://db.tohoku.ac.jp/whois/e_detail/857f19cc296e303dde79bfbeb5960acd.html
研究分野 (8件): 計算科学 ,  複合材料、界面 ,  電気電子材料工学 ,  電子デバイス、電子機器 ,  薄膜、表面界面物性 ,  応用物性 ,  金属材料物性 ,  知能情報学
研究キーワード (7件): 集積デバイス ,  人工知能 ,  強的秩序とその操作 ,  酸化物エレクトロニクス ,  薄膜 ,  マルチフェロイクス ,  スピントロニクス
競争的資金等の研究課題 (13件):
  • 2024 - 2027 磁気接合における伝導機構の電子論的解明と高性能磁気抵抗素子のデザイン・機能実証
  • 2023 - 2026 超軌道分裂による新奇巨大界面応答
  • 2023 - 2026 非平衡マルチフェロイックス界面の超軌道分裂による新奇巨大界面応答
  • 2015 - 2018 マルチフェロイックトンネル接合素子を用いた超高感度磁気センサの創出
  • 2012 - 2017 規則合金系ヘテロ接合における多彩な物理現象とスピンデバイス創製
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論文 (254件):
  • T. V. A. Nguyen, Y. Saito, H. Naganuma, D. Vu, S. Ikeda, T. Endoh. Investigation of the Dynamic Magnetic Properties in RuO2/Co-Fe-B Stack Film. IEEE Transactions on Magnetics. 2024
  • Enhanced Curie temperature near 300 K in highly crystalline GdO epitaxial thin films concomitant with an anomalous Hall effect. 2024. 1. 1. 1
  • Haruto Takahashi, Shingo Maruyama, Hiroshi Naganuma, Hiroki Taniguchi, Ryota Takahashi, Shintaro Yasui, Kenichi Kaminaga, Yuji Matsumoto. Ferroelectric polycrystalline Bi2SiO5 thin films on Pt-covered Si substrates prepared by pulsed laser deposition combined with post-annealing. Journal of Alloys and Compounds. 2024. 988. 174195-174195
  • T. V. A. Nguyen, H. Naganuma, H. Honjo, S. Ikeda, T. Endoh. Ultrafast spin-orbit torque-induced magnetization switching in a 75°-canted magnetic tunnel junction. AIP Advances. 2024. 14. 025018-025018
  • Hayato Adachi, Ryusuke Endo, Hikari Shinya, Hiroshi Naganuma, Tomoya Ono, Mitsuharu Uemoto. First-principle study of spin transport property in L10-FePd(001)/graphene heterojunction. Journal of Applied Physics. 2024
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MISC (26件):
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特許 (9件):
書籍 (6件):
  • L10-FePd/グラフェン界面のChemisorption 型ファン デルワールス結合による堅牢な界面垂直磁気異方性の 発現
    放射光 2022
  • 強磁性トンネル接合素子の強磁性電極材料
    電子情報通信学会 2022
  • 室温以上に転移温度のある界面マルチフェロイックス-高感度磁気センサへの応用に向けて-
    セラミックス 2021
  • ペロブスカイトエピタキシャル膜の構造解析と界面キャリア注入効果
    東京工業大学フロンティア材料研究所 2020
  • Materials Science Advanced Topics 'Optical properties on multiferroic BiFeO3 films'
    2013
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講演・口頭発表等 (89件):
  • Cr, Mn, Co, Ni, Cu添加BiFeO3薄膜の膜構造、強誘電性および磁気特性
    (特定領域「スピン流の創出と制御」研究会 2008)
  • Analysis for Crystal Structure and Electric Properites of Epitaxial BiFeO3-BiCoO3 Films Grown by MOCVD
    (International Symposium on Integrated Feroelectrics 2008)
  • BiFeO3-BiCoO3固溶体薄膜におけるMPB-ME効果の可能性について
    (特定領域研究会 第二回トピカルミーティング 2008)
  • Co添加によるBiFeO3薄膜の自発磁化の発現および抗電界の低減
    (第25回強誘電体応用会議 2008)
  • (Pb,La)(Zr1-x,Tix)O3 (x=0.1-0.9)膜の電気光学特性及び圧電特性
    (第25回強誘電体応用会議 2008)
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学位 (1件):
  • 博士(工学) (Osaka University)
経歴 (3件):
  • 2024/06 - 現在 東北大学 国際集積エレクトロニクス研究開発センター 研究開発部門 教授
  • 2023/12 - 現在 名古屋大学 未来材料・システム研究所 材料創製部門 特任准教授
  • 2023/12 - 現在 名古屋大学 国際高等研究機構 特任准教授
委員歴 (14件):
  • 2021/12 - 現在 次世代放射光施設利用推進委員会 マシンタイム管理検討専門委員会委員
  • 2021/04 - 現在 東北大学 安全保障輸出管理委員会(全学)委員
  • 2021/01 - 現在 公益社団法人応用物理学会 強的秩序とその操作に関わる研究会 代表
  • 2020/04 - 現在 J-PARC MLF 課題審査委員
  • 2020/04 - 現在 International conference on Solid State Devices and Materials Program committee member
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受賞 (13件):
  • 2024/09 - 応用物理学会強的秩序とその操作に関わる研究会 Poster Award 軟X線深さ分解磁気円二色性解析におけるBack-Ground処理フレームワーク開発とL10-FePd 薄膜への適用
  • 2024/07 - International Conference on Magnetism 2024 Poster Award Perpendicular Anisotropy Magnetic Tunnel Junction Sensors with Vertical Flux Concentrators for Neural Magnetic field Sensing
  • 2021/10 - The 5th symposium for the core research clusters for materials science and spintronics ポスター賞
  • 2021/09 - 公益社団法人応用物理学会 第82回応用物理学会秋季学術講演会 ポスター賞 グラフェン/L10-規則合金界面に誘起された異方的軌道モーメント
  • 2020/07 - フロンティア材料研究所 フロンティア材料研究所学術賞 ペロブスカイトエピタキシャル膜の構造解析と界面キャリア注入効果
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所属学会 (7件):
公益社団法人応用物理学会「強的秩序とその操作に関わる研究会」 ,  IEEE membership ,  応用物理学会 ,  公益財団法人応用物理学会「強的秩序とその操作に関わる研究グループ」 ,  MRS ,  日本金属学会 ,  日本磁気学会
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