田嶋聡美

タジマサトミ | Satomi Tajima

所属機関・部署：
ホームページURL (2件)： https://www.researchgate.net/profile/Satomi_Tajima?ev=prf_highl , https://www.researchgate.net/profile/Satomi_Tajima

研究分野 (3件)：電子デバイス、電子機器 , プラズマ科学 , 薄膜、表面界面物性

研究キーワード (4件)：品質保証 , 半導体実装 , プラズマプロセス , 表面分析

競争的資金等の研究課題 (9件)：

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論文 (21件)：

特許 (16件)：

書籍 (3件)：

講演・口頭発表等 (4件)：

磁性ナノ粒子へのNiフェライト被膜形成時の酸化還元電位の影響
(2019)
Modeling molecules responsible for the sidewall protection during the chemical dry etching of silicon related materials using F2 + NOx -> F + FNOx
(9th International Conference on Reactive Plasmas/68rd Gaseous Electronics Conference /33th Symposium on Plasma Processing, (ICRP-9/GEC-68/SPP-33) 2015)
Change in optical properties by texturing Si compounds by F2 and NOx gases
(Japan Society of Applied Physics (JSAP)-Optical Society of America (OSA) Joint Symposia 2015 2015)
Chemical dry etching of Si using F2 and NO2 gases at elevated temperature
(7th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials/8th International Conference on Plasma-Nano Technology & Science (ISPlasma2015/IC-PLANTS2015) 2015)

学歴 (3件)：

学位 (1件)：

経歴 (1件)：

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田嶋 聡美