研究者
J-GLOBAL ID:200901029826291237   更新日: 2022年08月21日

石田 修一

イシダ シュウイチ | Ishida Shuichi
所属機関・部署:
職名: 教授
研究分野 (2件): 磁性、超伝導、強相関系 ,  半導体、光物性、原子物理
研究キーワード (4件): 金属薄膜 ,  半導体薄膜 ,  Metal Film ,  Semiconductor Film
競争的資金等の研究課題 (6件):
  • 不純物半導体Si:Sbの金属一非金属転移
  • ナローギャップ半導体の磁場誘起金属-非金属転移と非線形伝導
  • ガリウム砒素基板上ナローギャップ半導体薄膜の輸送現象
  • Metal-Insulator Tranition in Doped Semiconductor Si : Sb
  • Magnetic-Field Induced Metal-Insulator Transition and Non-Ohmic Conduction in Narrow-Gap Semiconductors
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MISC (33件):
Works (37件):
  • GaAs基板上のInSb薄膜における電気伝導
    2001 -
  • デルタドープされたSi:Sbにおける反局在効果
    2001 -
  • Electrical Conduction in InSb Film on GaAs Substrate
    2001 -
  • Weak Anti-Localization in δ-doped Si : Sb
    2001 -
  • 金属型Si:Sbの電気伝導と弱局在
    2000 -
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学位 (1件):
  • 理学博士
所属学会 (2件):
応用物理学会 ,  日本物理学会
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