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J-GLOBAL ID：200902115698660078   整理番号：00A0692961

ディンプル鋳型を用いた微小パターン刻印リソグラフィー

Fine pattern imprint lithography using dimpled mold.

著者 (5件)： HIRAI Y (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  KANEMAKI Y (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  FUJIWARA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  YOTSUYA T (Osaka Sci. and Technol. Center, Osaka, JPN) ,  TANAKA Y (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 13  号： 3  ページ： 435-439  発行年： 2000年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 異方性湿式化学エッチング(anisotropic wet c...

シソーラス用語： 電子ビームリソグラフィー ,...

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (10件)：

• 1). S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom, Appl. Phys. Lett. 67, (1995) 3114.
• 2). S. Pang, T. Tamamura, N. Makao, A. Ozawa, and H. Masuda, J. Vac. Sci. Technol.B, 16 (1998) 1145.
• 3). A.Yokoo, M.Nakao, H.Yoshikawa, H.Masuda and T.Tamamura, Jpn. J. Appl. Phys., 38 (1999) 7268.
• 4). A.Baba, M.Hizukuri, M.Iwamoto and T.Asano, Jpn. J. Appl. Phys., 7203.
• 5). H.C.Scheer and H.Schuls, J. Vac. Sci. Technol. B 16 (1998) 3917.

タイトルに関連する用語 (5件)： ディンプル ,  鋳型 ,  微小パターン ,  刻印 ,  リソグラフィー