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J-GLOBAL ID:200902118886740410   整理番号:01A0059384

分光偏光解析法によるSiC上の酸化物膜の特性評価

Characterization of Oxide Films on SiC by Spectroscopic Ellipsometry.
著者 (8件):
資料名:
巻: 39  号: 10B  ページ: L1054-L1056  発行年: 2000年10月15日 
JST資料番号: F0599B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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分光偏光解析法によってSiC上の熱酸化膜の光学定数を評価し,...
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分類 (2件):
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酸化物薄膜  ,  光物性一般 
引用文献 (15件):
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