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J-GLOBAL ID：200902123137271350   整理番号：01A0711437

反応性イオンめっきによって形成したTi-O薄膜の酸素添加過程

Oxygenation Process of Ti-O Films Formed by Reactive Ion Plating.

著者 (4件)： OUMI K (Toyo Univ., Saitama, JPN) ,  KASHIWAGI K (Toyo Univ., Saitama, JPN) ,  KOKAI H (Toyo Univ., Saitama, JPN) ,  MURAYAMA Y (Toyo Univ., Saitama, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 40  号： 5A  ページ： L468-L470  発行年： 2001年05月01日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： RF反応性イオンめっきによって種々な条件下でTi-O薄膜を成...

シソーラス用語： 酸素化 ,...
準シソーラス用語： 反応性イオンめっき

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (8件)：

• 1) Q. Tang, K. Kikuchi, S. Ogura and A. Macleod: J. Vac. Sci. & Technol. A <B>17</B> (1999) 3379.
• 2) H. K. Jang, S. W. Whangbo, H. B. Kim, K. Y. Im, Y. S. Lee, I. W. Lyo, C. N. Whang, G. Kim, H. S. Lee and J. M. Lee: J. Vac. Sci. & Technol. A <B>18</B> (2000) 917.
• 3) K. Maki and K. Ogawa: Oyo Buturi 67 (1998) 1383 [in Japanese].
• 4) Y. Inoue, Y. Ikeda and Y. Yoshimura: Hyomen Gijutu 50 (1999) 90 [in Japanese].
• 5) K. Kashiwagi, K. Kobayashi, A. Masuyama and Y. Murayama: J. Vac. Sci. & Technol. A <B>4</B> (1986) 210.

タイトルに関連する用語 (6件)： 反応性 ,  イオンめっき ,  Ti ,  薄膜 ,  酸素添加 ,  過程